Diseñadores Sonia Chang y Daniel del Barco representarán a Costa Rica en el "New York Fashion Week"
Festival de moda se realizará en el mes de febrero.
Los diseñadores nacionales Sonia Chang Díaz y Daniel del Barco, representarán al país en la próxima edición de New York Fashion Week.
La diseñadora de alta costura y el creador de zapatos, estarán presentes en el Epson Digital Couture 2017 que se realiza en la semana de la moda estadounidense.
Ambos mostrarán sus diseños elaborados con avanzadas soluciones de sublimación; técnica de impresión que consiste en la transferencia de una imagen impresa en papel al textil por medio de calor.
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“Me siento muy ilusionada de trabajar con esta tecnología de sublimación porque me permite explotar mi creatividad en todos los aspectos e innovar en mi carrera. Es una oportunidad de presentar una propuesta sofisticada y novedosa frente a la industria de la moda mundial, espero dejar el nombre de Costa Rica en alto”, dijo Chang.
Este es el tercer año que Costa Rica participará de este importante festival de moda, en el año 2015 asistieron estudiantes de la Universidad Veritas y el año pasado fue Fabrizzio Berrocal.
“Esta oportunidad nos permitirá hacer historia. Plasmaremos diseños únicos en calzado gracias a la sublimación de Epson, es algo novedoso que nos pone a jugar con el color, la moda y las últimas tendencias. Yo estoy muy contento con el reto y esta nueva forma de potenciar mi creatividad”, expresó del Barco.
El Epson Digital Couture 2017 se realizará en el mes de febrero.